大型（xíng）冷水機組在真空鍍膜上的（de）應用

大型冷水機（jī）組在真空鍍膜工作原理是膜體（tǐ）在高溫下蒸發落在工件表麵結晶。由於空氣對蒸發的膜體分子會產生（shēng）阻力造成碰撞（zhuàng）使結晶體變（biàn）得粗糙無光，所以必（bì）須在高真空下才能使結晶體細密（mì）光亮，果如真空度不高（gāo）結晶體（tǐ）就會失去光澤結合（hé）力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發（fā）體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中（zhōng）頻磁控濺射靶用磁控射靶將（jiāng）膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜（mó），解決了過（guò）去自然蒸發無法加工的（de）膜體品種，如鍍鈦鍍（dù）鋯等等。

大型冷水機組在中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應，電荷會聚（jù）集在電導有表麵積，這樣使電導發熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。