大型冷水機組在真（zhēn）空鍍膜的操作工藝

大型冷水機組在真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表麵結晶。由於空氣對蒸發的膜（mó）體（tǐ）分子會產生阻（zǔ）力造成碰撞使結晶（jīng）體變（biàn）得粗糙無光，所以必須在高真空（kōng）下才能使結晶體細密光亮，果如真空度不高結晶體就（jiù）會失去光澤結合力也（yě）很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發（fā）體自然散射，結合差工效低光澤（zé）差。現在加上中頻磁控濺射（shè）靶用磁控射靶（bǎ）將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片（piàn）上成膜，解決了過去自然蒸發（fā）無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯（gào）等等（děng）。

中頻設備（bèi）必須加冷卻水，原因是它的頻率高（gāo）電（diàn）流（liú）大。電流在（zài）導體流動時有一個集膚效應，電荷會聚集在電導有表麵積，這樣使電導發熱所（suǒ）以采用中孔管（guǎn）做導體（tǐ）中間加水（shuǐ）冷卻。 磁控濺射靶在發（fā）射（shè）時會產生高溫會（huì）使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。同（tóng）時（shí）還有一個重要（yào）原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術（shù）中最突出的成就之一（yī）。它以濺射率高、基片溫升低（dī）、膜 - 基結合力好。